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楼主: FEIZHAO

[技术] 停放的胶料的硫化曲线的转矩要高于未停放的胶料的转矩的原因分析

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发表于 2011-1-11 09:26:08 | 显示全部楼层
这是NBR的160度的DCP硫化曲线,最上面一条是混炼后停放8h,下面两条是停放了两个月后的硫化曲线,中间一条是经过返炼的,最下面一条经过返炼后加CTP,相信经过这两个图的对比,可以看出返炼和CTP对MH的影响吧,我就不解释了。
QQ截图未命名.png
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发表于 2011-1-31 19:13:47 | 显示全部楼层

回复 11楼的 hucking 的帖子

不知道在DCP体系中加CTP是什么目的?% W, n' y* B* R* L: i
没听说CTP能改善DCP体系焦烧性能的。不过,CTP对DCP体系产生干扰,造成转矩下降倒是有可能的。
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发表于 2011-2-8 22:05:03 | 显示全部楼层
看这样的帖子,受益匪浅
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发表于 2011-2-9 17:52:18 | 显示全部楼层
这样的好帖子要顶起来
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发表于 2011-2-11 14:51:13 | 显示全部楼层
是CTP造成的
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发表于 2011-2-12 08:22:55 | 显示全部楼层
CTP很少用到DCP硫化系统,用了看来是有影响的!不错的尝试!还是你们那里是比较成熟的做法?
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发表于 2011-2-12 08:35:13 | 显示全部楼层
CTP是有影响。。。。。。。
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发表于 2011-2-12 09:10:36 | 显示全部楼层

回复 5楼的 之见 的帖子

大师,这个有点解释不通吧? 是不是各种胶料弄混了啊?

评分

参与人数 1胶分 +1 收起 理由
之见 + 1 我也是这么想的。

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发表于 2011-2-12 10:31:36 | 显示全部楼层
学习了,顶起来,受益
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发表于 2011-5-16 10:48:30 | 显示全部楼层
很多停放的目的叫做消除内部应力,停放时间太长,内部产生变化
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