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出版日期:2004年1月第一版 作者:郑伟涛等0 K8 R- F& J7 q e# R
第一章:真空技术基础
+ v4 u4 R/ M6 F6 H& \第二章:薄膜制备的化学方法
6 x" ^" Y/ I, n. Q# ^' ?- O6 M$ D第三章:薄膜制备的物理方法6 r$ r1 f) a, U5 F* c7 I
第四章:薄膜的形成与生长
& J8 b" E# I% h$ r* S第五章:薄膜表征3 g+ S6 j+ W7 J7 q; ]
第六章:薄膜材料
& M; K3 l0 T0 ]1 k) l8 C% c3 f7 P# O X: m
>>> 2008-10-9 15:43 补充以下内容3 X) { V5 I C4 \/ t* G5 a! }
. F* U0 I3 @7 |+ U& l5 \7 v
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